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2023-07-31 国产光刻机如何突围
近日，有消息称，上海微电子正致力于研发28纳米浸没式光刻机，预计在2023年年底将国产第一台SSA/800-10W光刻机设备交付市场。此前，国家知识产权局公布了一项华为新的专利“反射镜、光刻装置及其控...
2023-07-31 09:34:14国产光刻机如何突围