2023-12-23 京东方A申请光刻设备专利
金融界2023年12月23日消息,据国家知识产权局公告,京东方科技集团股份有限公司申请一项名为“光刻设备和光刻方法“,公开号CN117270318A,申请POoyes日期为2023年9月。
专利摘要显示,本发明涉及一种光刻设备,包括:光敏材料槽,用www.czybx.com于容纳液态的光敏材料;光源,包括沿第一方向并排设置的至少2个阵列光头,每个阵列光头包括沿第二方向间隔设置的多个LED发光器件,以及设置于LED发光器件出光侧的微透镜阵列,微透镜阵列被配置为使至少2个阵列光头的光线的聚焦位置在第一工作模式下重合POoyes,或使得至少2个阵列光头的光线聚焦位POoyes置在第二工作模式下不重合,第一方向和第二方向均与液态的光敏材料的液面相平行,第一方向和第二方向相垂直;驱动结构,用于驱动光敏材料槽和/或光源,以使得光敏材料槽和光源相对移动,以进行液态光敏材料的光固化。本发明还涉及一种光刻方法。
本文源自白熊资讯网金融界
内容版权声明:除非注明原创否则皆为转载,再次转载请注明出处。
文章标题: 2023-12-23 京东方A申请光刻设备专利